Titre :	Influence d'oxydation thermique classique sèche (C.D.TO) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore.
Type de document :	texte imprimé
Auteurs :	Abdelaziz Ait-Kaki, Auteur ; Messaoud Boukezzata, Directeur de thèse
Editeur :	Constantine : Université Mentouri Constantine
Année de publication :	1996
Importance :	86 p.
Langues :	Français (fre)
Catégories :	Français - Anglais Electronique
Index. décimale :	621 Electronique
Diplôme :	Magistère
En ligne :	../theses/electronique/AIT2864.pdf
Format de la ressource électronique :	pdf
Permalink :	index.php?lvl=notice_display&id=10075

Influence d'oxydation thermique classique sèche (C.D.TO) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore. [texte imprimé] / Abdelaziz Ait-Kaki, Auteur ; Messaoud Boukezzata, Directeur de thèse . - Constantine : Université Mentouri Constantine, 1996 . - 86 p.
Langues : Français (fre)

Catégories :	Français - Anglais Electronique
Index. décimale :	621 Electronique
Diplôme :	Magistère
En ligne :	../theses/electronique/AIT2864.pdf
Format de la ressource électronique :	pdf
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