Influence d'oxydation thermique classique sèche (C.D.TO) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore. / Abdelaziz Ait-Kaki  

Public ISBD Titre : Influence d'oxydation thermique classique sèche (C.D.TO) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore. Type de document : texte imprimé Auteurs : Abdelaziz Ait-Kaki, Auteur ; Messaoud Boukezzata, Directeur de thèse Editeur : Constantine : Université Mentouri Constantine Année de publication : 1996 Importance : 86 p. Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais Electronique Index. décimale : 621 Electronique Diplôme : Magistère En ligne : ../theses/electronique/AIT2864.pdf Format de la ressource électronique : pdf Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=10075 Influence d'oxydation thermique classique sèche (C.D.TO) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore. [texte imprimé] / Abdelaziz Ait-Kaki, Auteur ; Messaoud Boukezzata, Directeur de thèse . - Constantine : Université Mentouri Constantine, 1996 . - 86 p. Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais Electronique Index. décimale : 621 Electronique Diplôme : Magistère En ligne : ../theses/electronique/AIT2864.pdf Format de la ressource électronique : pdf Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=10075

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AIT/2864	AIT/2864	Thèse	Bibliothèque principale	Thèses	Disponible

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