Contribution à la modélisation du mécanisme de diffusion du cuivre dans le silicium à travers une barrière de diffusion / Sofia Bouslah

Public ISBD Titre : Contribution à la modélisation du mécanisme de diffusion du cuivre dans le silicium à travers une barrière de diffusion Type de document : texte imprimé Auteurs : Sofia Bouslah ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; N. Mansouri, Directeur de thèse Année de publication : 2002 Importance : 72 f. Note générale : 01 disponible dans la salle de recherche 02 disponibles au magasin de la bibliothèque centrale Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais Electronique Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2483 Contribution à la modélisation du mécanisme de diffusion du cuivre dans le silicium à travers une barrière de diffusion [texte imprimé] / Sofia Bouslah ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; N. Mansouri, Directeur de thèse . - 2002 . - 72 f. 01 disponible dans la salle de recherche 02 disponibles au magasin de la bibliothèque centrale Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais Electronique Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2483

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