Elaboration et étude des siliciures aux interfaces Cu/Si et Cr/Si influence des impuretés / Nour Eddine Benouattas

Public ISBD Titre : Elaboration et étude des siliciures aux interfaces Cu/Si et Cr/Si influence des impuretés Type de document : texte imprimé Auteurs : Nour Eddine Benouattas ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; A. Bouabellou, Directeur de thèse Année de publication : 2000 Importance : 85 f. Format : 30 cm Note générale : 1 Disponible à la salle de recherche 2 Disponibles au magasin de la bibliothèque centrale Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais Physique Tags : Contraintes  Siliciures de chrome et de cuivre  Implantation au phosphore  Diode Schottky et hétéro jonction  Croissance épitaxiale  Oxyde de silicium Index. décimale : 530 Physique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=3061 Elaboration et étude des siliciures aux interfaces Cu/Si et Cr/Si influence des impuretés [texte imprimé] / Nour Eddine Benouattas ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; A. Bouabellou, Directeur de thèse . - 2000 . - 85 f. ; 30 cm. 1 Disponible à la salle de recherche 2 Disponibles au magasin de la bibliothèque centrale Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais Physique Tags : Contraintes  Siliciures de chrome et de cuivre  Implantation au phosphore  Diode Schottky et hétéro jonction  Croissance épitaxiale  Oxyde de silicium Index. décimale : 530 Physique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=3061

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BEN/3378	BEN/3378	Thèse	Bibliothèque principale	Thèses	Disponible

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