Titre :	Etude des transformations microstructurales et de phases induites dans les couches minces de silicium amorphe par faisceau Laser : Effet des contraintes thermiques sur la cristallisation
Type de document :	texte imprimé
Auteurs :	Nassima Lamari, Auteur ; K. Mirouh, Directeur de thèse
Editeur :	CONSTANTINE [ALGERIE] : Université Frères Mentouri Constantine
Année de publication :	2018
Importance :	69 f.
Format :	30 cm.
Note générale :	Une copie elelctronique PDF disponible en Buc
Langues :	Français (fre)
Catégories :	Sciences Exactes:Physique
Tags :	transformations microstructurales  couches minces
Index. décimale :	530 Physique
Résumé :	Le travail de ce mémoire de master porte sur l’étude des transformations de phase et microstructurales dans les couches minces de silicium amorphe renfermant des champs de contraintes très importants.Ces couches ont été déposées sur un substrat de quartz par la méthode CVD (Chemical Vapor Deposition) et recouvertes par un film mince de SiO2. Trois types de dépôt ont été étudiés : SiO2/a-Si/quartz, SiO2/a-Si :H/quartz et aSi :H/quartz. Les couches a-Si et a-Si :H ont été obtenues, respectivement, par LPCVD et PECVD, pour des températures de dépôt respectives de 550 et 250°C.Les moyens de caractérisation sont la microspectroscopie raman et la microscopie électronique à transmission. La couche a-Si:H recouverte par le film SiO2 renferme les contraintes plus élevées. L’irradiation de cette couche par le laser d’excitation raman, de quelques mW, a entrainé la formation de la phase hexagonale de silicium.Les phénomènes anormaux de cristallisation ont été étudiés. Ils se manifestent dans les régions de la couche mince aSi:H, loin de la zone irradiée par le laser excimère KrF de densité d’énergie de 2.9 J/cm
Diplome :	Master 2
Permalink :	https://bu.umc.edu.dz/master/index.php?lvl=notice_display&id=9435

Etude des transformations microstructurales et de phases induites dans les couches minces de silicium amorphe par faisceau Laser : Effet des contraintes thermiques sur la cristallisation [texte imprimé] / Nassima Lamari, Auteur ; K. Mirouh, Directeur de thèse . - CONSTANTINE [ALGERIE] : Université Frères Mentouri Constantine, 2018 . - 69 f. ; 30 cm.
Une copie elelctronique PDF disponible en Buc
Langues : Français (fre)

Catégories :	Sciences Exactes:Physique
Tags :	transformations microstructurales  couches minces
Index. décimale :	530 Physique
Résumé :	Le travail de ce mémoire de master porte sur l’étude des transformations de phase et microstructurales dans les couches minces de silicium amorphe renfermant des champs de contraintes très importants.Ces couches ont été déposées sur un substrat de quartz par la méthode CVD (Chemical Vapor Deposition) et recouvertes par un film mince de SiO2. Trois types de dépôt ont été étudiés : SiO2/a-Si/quartz, SiO2/a-Si :H/quartz et aSi :H/quartz. Les couches a-Si et a-Si :H ont été obtenues, respectivement, par LPCVD et PECVD, pour des températures de dépôt respectives de 550 et 250°C.Les moyens de caractérisation sont la microspectroscopie raman et la microscopie électronique à transmission. La couche a-Si:H recouverte par le film SiO2 renferme les contraintes plus élevées. L’irradiation de cette couche par le laser d’excitation raman, de quelques mW, a entrainé la formation de la phase hexagonale de silicium.Les phénomènes anormaux de cristallisation ont été étudiés. Ils se manifestent dans les régions de la couche mince aSi:H, loin de la zone irradiée par le laser excimère KrF de densité d’énergie de 2.9 J/cm
Diplome :	Master 2
Permalink :	https://bu.umc.edu.dz/master/index.php?lvl=notice_display&id=9435