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Auteur S. Sahèi |
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Titre : Caractérisation de films minces carbonés élaborés par plasma PECVD Type de document : texte imprimé Auteurs : Mouloud Kihel ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse Année de publication : 2010 Importance : 127 f. Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche 01 Disponible au magazin de la B.U.C. 01 CD Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Films minces carbonés Plasma PECVD Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2680 Caractérisation de films minces carbonés élaborés par plasma PECVD [texte imprimé] / Mouloud Kihel ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse . - 2010 . - 127 f.
01 Disponible à la salle de recherche 01 Disponible au magazin de la B.U.C. 01 CD
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ElectroniqueTags : Films minces carbonés Plasma PECVD Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2680 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité KIH/5686 KIH/5686 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible
Titre : Caractérisation de films minces déposés par plasma PECVD à partir de vapeurs de TMS Type de document : texte imprimé Auteurs : Mouloud Kihel ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse Année de publication : 2006 Importance : 77 f. Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B.U.C.
01CDLangues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Vapeur Plasma Films minces PECVD TMS Index. décimale : 621 Electronique Résumé : In this work the study of the effect of the deposition parameters (discharge power and additive oxygen rate in the mixture) on the physico-chemical and dielectric properties of thin films deposited by PECVD technique in microwave DCER plasma reactor from TMS vapors only or mixed with proportions of oxygen has been reported.
The physico-chemical analysis of deposited films show that for the weak rates of oxygen the elaborated layers are organic in nature, whereas, for the strong rates of oxygen the elaborate layers are inorganic in nature and their structure was close to that of the thermal silicon oxide. Moreover, the increase of the power discharge produces a more fragmentation of the TMS molecule and induced a reduction of the methyl and hydrogen groups.
The value of the permittivity varies according to the rate of oxygen in the mixture. For 90% rate of oxygen, the value of the dielectric constant is near to the value found for thermal silicon oxide and the dielectric losses were very low. This results corelate well with FTIR spectroscopy results. It appears that the value of the
permittivity and the dielectric losses is linked to the presence of the hydroxyls elements in the elaboreted films. A more incorporation of the hydroxyls elements lead to the increase of the permittivity and the dielectric losses. The study of the electric current according to the polarisation voltage suggests the presence of space charge mechanism. The addition of the oxygen and the increase of the discharge power lead to an improvement of the electric properties of the deposited films.Diplôme : Magistère En ligne : ../theses/electronique/KIH4497.pdf Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2784 Caractérisation de films minces déposés par plasma PECVD à partir de vapeurs de TMS [texte imprimé] / Mouloud Kihel ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse . - 2006 . - 77 f.
01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B.U.C.
01CD
Langues : Français (fre)
Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Vapeur Plasma Films minces PECVD TMS Index. décimale : 621 Electronique Résumé : In this work the study of the effect of the deposition parameters (discharge power and additive oxygen rate in the mixture) on the physico-chemical and dielectric properties of thin films deposited by PECVD technique in microwave DCER plasma reactor from TMS vapors only or mixed with proportions of oxygen has been reported.
The physico-chemical analysis of deposited films show that for the weak rates of oxygen the elaborated layers are organic in nature, whereas, for the strong rates of oxygen the elaborate layers are inorganic in nature and their structure was close to that of the thermal silicon oxide. Moreover, the increase of the power discharge produces a more fragmentation of the TMS molecule and induced a reduction of the methyl and hydrogen groups.
The value of the permittivity varies according to the rate of oxygen in the mixture. For 90% rate of oxygen, the value of the dielectric constant is near to the value found for thermal silicon oxide and the dielectric losses were very low. This results corelate well with FTIR spectroscopy results. It appears that the value of the
permittivity and the dielectric losses is linked to the presence of the hydroxyls elements in the elaboreted films. A more incorporation of the hydroxyls elements lead to the increase of the permittivity and the dielectric losses. The study of the electric current according to the polarisation voltage suggests the presence of space charge mechanism. The addition of the oxygen and the increase of the discharge power lead to an improvement of the electric properties of the deposited films.Diplôme : Magistère En ligne : ../theses/electronique/KIH4497.pdf Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2784 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité KIH/4497 KIH/4497 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible Caracterisation de films minces déposés par plasma RCER à partir de diphenylemethèesilane (DPMS) en vue de l'obtention d'un materiau à faible permitivité (low k) pour des applications microelectroniques / Leila Bouledjnib
Titre : Caracterisation de films minces déposés par plasma RCER à partir de diphenylemethèesilane (DPMS) en vue de l'obtention d'un materiau à faible permitivité (low k) pour des applications microelectroniques Type de document : texte imprimé Auteurs : Leila Bouledjnib ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse Année de publication : 2005 Importance : 67 f. Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la bibliothèque centrale
01 CDLangues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Matériau Films minces Diphenylemethèesilane Faible permitivité Applications microelectroniques Index. décimale : 621 Electronique Résumé : The aim of this work deals with the study of dielectric, physico-chemical properties and the step voltage responses of thin films deposited by plasma PECVD in microwave DECR plasma reactor have been studied. The films were elaborated from pur biphenylmethylsilane (DPMS) vapor or in a mixture with a partial pressure of oxygen. The physico-chemical analysis allowed us to identify the different chemical elements present in the deposited DPMS films, with and without the addition of oxygen. The chemical composition was influenced by the power discharge of the plasma. The dielectrical analysis has permitted to evaluat the influence of the chemical composition on the dielectric constant as well as on the losses dielectric of the deposited films.
The films responses to step voltage excitation have shown the presence of a transient current regardless of the discharges parametres. The analysis of the absorption and resorption current suggest a conduction limited by space charge mechanism which may be responsible for the transient currents. The carriers movement can be controlled by the mechanism of conduction limited by space charge and/or Poole Frenkel effect.Diplôme : Magistère En ligne : ../theses/electronique/BOU4303.pdf Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2741 Caracterisation de films minces déposés par plasma RCER à partir de diphenylemethèesilane (DPMS) en vue de l'obtention d'un materiau à faible permitivité (low k) pour des applications microelectroniques [texte imprimé] / Leila Bouledjnib ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse . - 2005 . - 67 f.
01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la bibliothèque centrale
01 CD
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Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Matériau Films minces Diphenylemethèesilane Faible permitivité Applications microelectroniques Index. décimale : 621 Electronique Résumé : The aim of this work deals with the study of dielectric, physico-chemical properties and the step voltage responses of thin films deposited by plasma PECVD in microwave DECR plasma reactor have been studied. The films were elaborated from pur biphenylmethylsilane (DPMS) vapor or in a mixture with a partial pressure of oxygen. The physico-chemical analysis allowed us to identify the different chemical elements present in the deposited DPMS films, with and without the addition of oxygen. The chemical composition was influenced by the power discharge of the plasma. The dielectrical analysis has permitted to evaluat the influence of the chemical composition on the dielectric constant as well as on the losses dielectric of the deposited films.
The films responses to step voltage excitation have shown the presence of a transient current regardless of the discharges parametres. The analysis of the absorption and resorption current suggest a conduction limited by space charge mechanism which may be responsible for the transient currents. The carriers movement can be controlled by the mechanism of conduction limited by space charge and/or Poole Frenkel effect.Diplôme : Magistère En ligne : ../theses/electronique/BOU4303.pdf Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2741 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité BOU/4303 BOU/4303 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible
Titre : Contribution à la modélisation des mécanismes de transport de charges électriques dans les polyéthylènes Type de document : texte imprimé Auteurs : Ahmed Kahèouche ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse Année de publication : 2000 Importance : 98 f. Format : 30 cm Note générale : 01 exp. disponible dans la salle de recherche
02 exp. disponible au magasin de la bibliothèque centraleLangues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Modélisation Polyéthylènes Surface potentiel Finit différences Potential decay Corona disharge Electrical charges Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2540 Contribution à la modélisation des mécanismes de transport de charges électriques dans les polyéthylènes [texte imprimé] / Ahmed Kahèouche ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse . - 2000 . - 98 f. ; 30 cm.
01 exp. disponible dans la salle de recherche
02 exp. disponible au magasin de la bibliothèque centrale
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Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Modélisation Polyéthylènes Surface potentiel Finit différences Potential decay Corona disharge Electrical charges Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2540 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité KAH/3389 KAH/3389 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible
Titre : Diagnostic par sonde électrostatique de la phase gazeuse d'un plasma de dép?t Type de document : texte imprimé Auteurs : Smail Mouissat ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse Année de publication : 2000 Importance : 63 f. Note générale : 1 disponible dans la salle de recherche
2 disponibles au magasin de la bibliothèque centraleLangues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
ElectroniqueTags : Polymère Plasma Décharge électrique Film mince Sonde électrostatique Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2698 Diagnostic par sonde électrostatique de la phase gazeuse d'un plasma de dép?t [texte imprimé] / Smail Mouissat ; Univ. de Constantine, Éditeur scientifique ; S. Sahèi, Directeur de thèse . - 2000 . - 63 f.
1 disponible dans la salle de recherche
2 disponibles au magasin de la bibliothèque centrale
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ElectroniqueTags : Polymère Plasma Décharge électrique Film mince Sonde électrostatique Index. décimale : 621 Electronique Permalink : index.php?lvl=notice_display&id=2698 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité MOU/3515 MOU/3515 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible
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