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Titre : Etude de la pulvérisation induite par des ions lourds multichargés Type de document : texte imprimé Auteurs : Smail Boudjadar ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; A. Meftah, Directeur de thèse Année de publication : 2005 Importance : 136p. Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B.U.C. 01 CD Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
PhysiqueTags : Endommagement Pulvérisation Irradiation Agrégats Ions lourds multichargés Pouvoir d'arret Traces latentes Index. décimale : 530 Physique Diplôme : Doctorat En ligne : ../theses/physique/BOU4320.pdf Format de la ressource électronique : Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3621 Etude de la pulvérisation induite par des ions lourds multichargés [texte imprimé] / Smail Boudjadar ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; A. Meftah, Directeur de thèse . - 2005 . - 136p.
01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B.U.C. 01 CD
Langues : Français (fre)
Catégories : Français - Anglais
PhysiqueTags : Endommagement Pulvérisation Irradiation Agrégats Ions lourds multichargés Pouvoir d'arret Traces latentes Index. décimale : 530 Physique Diplôme : Doctorat En ligne : ../theses/physique/BOU4320.pdf Format de la ressource électronique : Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3621 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité BOU/4320 BOU/4320 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible Synthèse et caractérisation de films minces de dioxyde de titane TiO2 préparé par pulvérisation reactive de magnétron, déstinés à la photocatalyse. / Smain Boukrouh
Titre : Synthèse et caractérisation de films minces de dioxyde de titane TiO2 préparé par pulvérisation reactive de magnétron, déstinés à la photocatalyse. Type de document : texte imprimé Auteurs : Smain Boukrouh ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; K Latrous, Directeur de thèse Année de publication : 2009 Importance : 119 f. Format : 30 cm Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B U C 01 CD Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
PhysiqueTags : Pulvérisation Films minces Physique Index. décimale : 530 Physique En ligne : ../theses/physique/BOU5280.pdf Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3448 Synthèse et caractérisation de films minces de dioxyde de titane TiO2 préparé par pulvérisation reactive de magnétron, déstinés à la photocatalyse. [texte imprimé] / Smain Boukrouh ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; K Latrous, Directeur de thèse . - 2009 . - 119 f. ; 30 cm.
01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B U C 01 CD
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PhysiqueTags : Pulvérisation Films minces Physique Index. décimale : 530 Physique En ligne : ../theses/physique/BOU5280.pdf Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3448 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité BOU/5280 BOU/5280 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible
Titre : analyse des propriétés structurales et mécaniques de couches minces dures déposées par PVD Type de document : texte imprimé Auteurs : Lounis Chekour ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; A. Djouadi, Directeur de thèse Année de publication : 2003 Importance : 164 p. Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche
02 Disponibles au magasin de la bibliothèque centraleLangues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
PhysiqueTags : Pulvérisation Rev¼tements Carbures et nitrures de chrome Triode Nitruration ionique Index. décimale : 530 Physique Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3129 analyse des propriétés structurales et mécaniques de couches minces dures déposées par PVD [texte imprimé] / Lounis Chekour ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; A. Djouadi, Directeur de thèse . - 2003 . - 164 p.
01 Disponible à la salle de recherche
02 Disponibles au magasin de la bibliothèque centrale
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PhysiqueTags : Pulvérisation Rev¼tements Carbures et nitrures de chrome Triode Nitruration ionique Index. décimale : 530 Physique Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3129 Exemplaires (1)
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Titre : Caractérisations des réactions interfaciales dans les couches minces métalliques binaires et multiples Type de document : texte imprimé Auteurs : Farida Kezai (Née Medjani) ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; Rachid Halimi, Directeur de thèse Année de publication : 2007 Importance : 89 f. Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B.U.C. 01 CD Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
PhysiqueTags : Pulvérisation Morphologie Multicouches TiN/AlN Nanocomposite Propriétés structurales Résistivité électrique Nanodureté Sputtering Multilayers TiN/AlN Zr-Si-N Structural proprieties Morphology Electrical resistivity Nanohardness Index. décimale : 530 Physique Résumé : DC reactive magnetron co-sputtering was used for the deposition of Zr-Si-N thin films and a multilayers TiN/AlN.
Si content (CSi) was varied by changing the power applied on the Si target, whereas that on Zr target was kept constant. Four series of samples have been deposited at various substrate temperatures: room temperature, 240 °C, 440 °C and 640 °C. The evolution of morphology,
crystalline structure, grain size and lattice constant has been investigated by X-ray diffraction analyses. Nanohardness, stress and resistivity measurements provide complementary information, which validate the proposed 3-step model for the film formation of the Zr-Si-N system deposited by reactive magnetron cosputtering. For low Si content the Si atoms substitute the Zr atoms in the ZrN lattice. Above the solubility limit, a nanocomposite film containing ZrN:Si nanocrystallites and amorphous SiNy is formed. Further increase of Si content results in a reduction of grain size (D), while the thickness of the SiNy layer at the crystallite surface remains constant. The increasing amount of the SiNy amorphous phase in the films is realized by increasing the surface to volume ratio of the crystallites. In this concentration range, the size of the crystallites in the Zr-Si-N films decreases according to the relationship CSi ~1/D. With
increasing the substrate temperature, the solubility limit of Si in ZrN decreases whereas the films’ global nitruration (CN /(CSi + CZr)) increases. The concentration dependence of the electrical resistivity is interpreted in terms of the variation of the SiNy layer thickness.
By controlling the thickness of individual layers (1-50 nm) and substrate bias (Vb = -25 V and V b = - 100V) two series of samples were prepared. The films were characterized using X-ray diffraction (DRX), cross-sectional electron microscopy (MET) and nanoindentation. The
measured hardness of multilayer films were found to be always higher than the rule of the mixture, but the magnitude of hardness enhancement was found to be dependent on the bilayer thickness and bias substrate. Decreasing progressively the layer thickness favors the alignment of
(0002) basal plan of w-AlN on (111) plane of TiN, and results in the development of strong (111) texture, prerequisite for stabilization of c-AlN and formation of epitaxial coherent structures.Diplôme : Doctorat En ligne : ../theses/physique/KEZ5008.pdf Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3347 Caractérisations des réactions interfaciales dans les couches minces métalliques binaires et multiples [texte imprimé] / Farida Kezai (Née Medjani) ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; Rachid Halimi, Directeur de thèse . - 2007 . - 89 f.
01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la B.U.C. 01 CD
Langues : Français (fre)
Catégories : Français - Anglais
PhysiqueTags : Pulvérisation Morphologie Multicouches TiN/AlN Nanocomposite Propriétés structurales Résistivité électrique Nanodureté Sputtering Multilayers TiN/AlN Zr-Si-N Structural proprieties Morphology Electrical resistivity Nanohardness Index. décimale : 530 Physique Résumé : DC reactive magnetron co-sputtering was used for the deposition of Zr-Si-N thin films and a multilayers TiN/AlN.
Si content (CSi) was varied by changing the power applied on the Si target, whereas that on Zr target was kept constant. Four series of samples have been deposited at various substrate temperatures: room temperature, 240 °C, 440 °C and 640 °C. The evolution of morphology,
crystalline structure, grain size and lattice constant has been investigated by X-ray diffraction analyses. Nanohardness, stress and resistivity measurements provide complementary information, which validate the proposed 3-step model for the film formation of the Zr-Si-N system deposited by reactive magnetron cosputtering. For low Si content the Si atoms substitute the Zr atoms in the ZrN lattice. Above the solubility limit, a nanocomposite film containing ZrN:Si nanocrystallites and amorphous SiNy is formed. Further increase of Si content results in a reduction of grain size (D), while the thickness of the SiNy layer at the crystallite surface remains constant. The increasing amount of the SiNy amorphous phase in the films is realized by increasing the surface to volume ratio of the crystallites. In this concentration range, the size of the crystallites in the Zr-Si-N films decreases according to the relationship CSi ~1/D. With
increasing the substrate temperature, the solubility limit of Si in ZrN decreases whereas the films’ global nitruration (CN /(CSi + CZr)) increases. The concentration dependence of the electrical resistivity is interpreted in terms of the variation of the SiNy layer thickness.
By controlling the thickness of individual layers (1-50 nm) and substrate bias (Vb = -25 V and V b = - 100V) two series of samples were prepared. The films were characterized using X-ray diffraction (DRX), cross-sectional electron microscopy (MET) and nanoindentation. The
measured hardness of multilayer films were found to be always higher than the rule of the mixture, but the magnitude of hardness enhancement was found to be dependent on the bilayer thickness and bias substrate. Decreasing progressively the layer thickness favors the alignment of
(0002) basal plan of w-AlN on (111) plane of TiN, and results in the development of strong (111) texture, prerequisite for stabilization of c-AlN and formation of epitaxial coherent structures.Diplôme : Doctorat En ligne : ../theses/physique/KEZ5008.pdf Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3347 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité KEZ/5008 KEZ/5008 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible
Titre : Effet des substitutions dans des nouveaux materiaux supraconducteurs : cas particulier des couches minces de thalium Type de document : texte imprimé Auteurs : Tarek Guerfi ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; M.F. Mosbah, Directeur de thèse Année de publication : 2010 Importance : 120 f. Note générale : 01 Disponible à la salle de recherche 01 Disponible au magazin de la B.U.C. 01 CD Langues : Français (fre) Catégories : Français - Anglais
PhysiqueTags : Pulvérisation Couches minces à base de thalium Supraconducteurs Thallination Index. décimale : 530 Physique En ligne : ../theses/physique/GUE5810.pdf Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3640 Effet des substitutions dans des nouveaux materiaux supraconducteurs : cas particulier des couches minces de thalium [texte imprimé] / Tarek Guerfi ; Université Mentouri, Editeur scientifique ; M.F. Mosbah, Directeur de thèse . - 2010 . - 120 f.
01 Disponible à la salle de recherche 01 Disponible au magazin de la B.U.C. 01 CD
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PhysiqueTags : Pulvérisation Couches minces à base de thalium Supraconducteurs Thallination Index. décimale : 530 Physique En ligne : ../theses/physique/GUE5810.pdf Permalink : https://bu.umc.edu.dz/md/index.php?lvl=notice_display&id=3640 Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité GUE/5810 GUE/5810 Thèse Bibliothèque principale Thèses Disponible
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